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非自耗真空電弧熔煉爐是研院進行真空冶金新材料的的設(shè)備

時間:2021-11-20 點擊:1974次

真空電弧爐是在抽真空的爐體中用電弧直接加熱熔煉金屬的電爐,適用于熔煉特殊鋼、活潑的和難熔的金屬如鈦、鉬、鈮。非自耗真空電弧熔煉爐用于熔煉高熔點金屬/合金,以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

非自耗真空電弧熔煉爐主要技術(shù)參數(shù):

1、型號:KDH-500

2、電弧熔煉室:立式圓筒型真空室

3、真空系統(tǒng)配置:飛越VRD-30直聯(lián)泵、JTFB-1200分子泵、高真空氣動擋板閥和各種管路真空系統(tǒng)

4、冷態(tài)極限真空度:2.0x10E-4Pa

5、熔煉電流:額定電流≤500A

6、引弧方式:高頻脈沖引弧

7、熔煉坩堝:共有5工位,有3個¢70*35半球形工位窩,***容重(樣品重量)50-130(克),2個¢50*35一個吸鑄工位,一個電磁攪拌工位。帶翻料機構(gòu),可以翻料重熔和轉(zhuǎn)移樣品

8、帶吸鑄工位,容重(樣品重量)50-80(克)吸鑄模具滑配設(shè)計方便拆卸。

9、工作氣體:Ar氣;

10、電弧熔煉陰極裝置:引弧方式為高頻引弧

11、電極桿和機械手均采用球密封機構(gòu),簡便有效;電極桿電動升降,操作便攜

12、爐體側(cè)部開門,裝卸料方便省去上部打開爐蓋裝卸料的不便,門上有操作觀察窗方便看清內(nèi)部熔化情況。



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