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桌面式小型真空甩帶爐

所屬分類:真空甩帶機

產品型號:KSD-0.02

更新時間:2022-02-23

描述:桌面式小型真空甩帶爐采用桌面式設計,功能齊全,應用于對稀有金屬釹鐵硼(0.2—0.3mm厚)的熔煉和甩帶成型,該設備具有科技含量高、操作簡單,熔煉時間短、節(jié)能高效等特點

詳細信息

 桌面式小型真空甩帶爐是用來制備和開發(fā)亞穩(wěn)材料(如非晶態(tài)材料)的設備,該設備除了具有感應爐的全部特點外,還具有制備塊體金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實驗工作,,廣泛用于新型稀土永磁材料非晶軟磁材料及納米材料科學的開發(fā)與研究。

 桌面式小型真空甩帶爐參數(shù)

1.樣品澆鑄熔煉量:200g;

2.澆鑄坩堝尺寸:35*70

3.熔煉溫度:高2200℃

4.樣品噴鑄甩帶熔煉量:20g;

5.輥輪尺寸:φ200mmx40(不帶水冷);

6.銅棍速度:1-3000r/min;

7.真空度:優(yōu)于5x10-4Pa;

8.熔煉電源功率:7KW;

9.甩帶噴鑄熔煉溫度:500℃-1700℃,滿足絕大多數(shù)實驗要求;

10.熔煉坩堝:氧化鋁

11.噴鑄甩帶坩堝:氮化硼及石英;

12.條帶寬度:1-10mm;

13.真空腔尺寸:300×300×480mm (L*W*H)

14.設備尺寸:620*560*780m(L*W*H)

15.標配:主機及感應熔煉電源

16.桌面式設計,占地空間小,特別節(jié)約實驗空間和能源

真空甩帶爐是用來制備和開發(fā)亞穩(wěn)材料(如非晶態(tài)材料)的設備,該設備除了具有感應爐的全部特點外,還具有制備塊體金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實驗工作,,廣泛用于新型稀土永磁材料非晶軟磁材料及納米材料科學的開發(fā)與研究。

 設備參數(shù)

1.樣品澆鑄熔煉量:200g;

2.澆鑄坩堝尺寸:35*70

3.熔煉溫度:高2200℃

4.樣品噴鑄甩帶熔煉量:20g;

5.輥輪尺寸:φ200mmx40(不帶水冷);

6.銅棍速度:1-3000r/min;

7.真空度:優(yōu)于5x10-4Pa;

8.熔煉電源功率:7KW;

9.甩帶噴鑄熔煉溫度:500℃-1700℃,滿足絕大多數(shù)實驗要求;

10.熔煉坩堝:氧化鋁

11.噴鑄甩帶坩堝:氮化硼及石英;

12.條帶寬度:1-10mm;

13.真空腔尺寸:300×300×480mm (L*W*H)

14.設備尺寸:620*560*780m(L*W*H)

15.標配:主機及感應熔煉電源

16.桌面式設計,占地空間小,特別節(jié)約實驗空間和能源

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